研究内容

その1(半導体と絶縁体の界面の原子レベルでの構造)
その2(誘電体表面・界面のモフォロジー)
その3(複雑系表面のメソスコピック構造)
その4(Ｘ線を用いた表面解析ための新たな装置と測定法の開発)
Ｘ線散乱実験