研究内容 > その1
半導体と絶縁体の界面の原子レベルでの構造
「酸化シリコン薄膜とシリコンの界面構造」絶縁体と半導体との界面にどのような構造が存在するのかを調査しています。特に酸化シリコンとシリコンの界面に存在するナノ結晶の構造と特性の研究を通してアモルファス酸化シリコンとシリコンの界面構造に関する３０年来の常識をくつがえしてやろうと努力しています。またこの研究は超LSIの開発などとも関連しているテーマなので、当初より半導体産業に従事されている研究者たちとの共同研究で進めてられてきました。
高橋研で提案しているクリストバライト構造